Genesis Tacit M , Taška cez rameno na fototechniku
Genesis Tacit M je elegantná taška v štýle puzdra, do ktorej sa zmestí malá digitálna zrkadlovka...
Zabraňuje prenikaniu rozptýleného svetla do objektívu; Neodleskujúca sa matná povrchová úprava zabraňuje odrazom; Bez vinetácie pri nasadenej clone objektívu; Umožňuje nasadiť filter F52 mm a krytku objektívu F52 mm; Dodatočná ochrana proti náhodnému nárazu.
Model: LH-EW52
Skrutkovacia krytka objektívu JJC LH-EW52 je navrhnutá tak, aby zabránila prenikaniu nežiaduceho rozptýleného svetla do objektívu tým, že predĺži a zacloní koniec objektívu. Neodleskujúca sa matná povrchová úprava na vnútornej strane ďalej zabraňuje alebo znižuje odlesky objektívu. S nasadenou krytkou nedochádza k vinetácii. Krytka umožňuje nasadiť filter Ф52 mm a krytku objektívu Ф52 mm. Vďaka predĺženému koncu objektívu využijete aj dodatočnú ochranu pred náhodným nárazom. JJC LH-EW52 nahrádza CAN. EW-52.
Najdôležitejšie vlastnosti výrobku
Blokuje rozptýlené svetlo pred vstupom do objektívu
Neoslňujúci matný povrch zabraňuje oslneniu
Žiadna vinetácia pri nasadenom kryte objektívu
Umožňuje nasadenie filtra Ф52 mm a krytky objektívu Ф52 mm
Dodatočná ochrana proti náhodnému nárazu
Kompatibilný s
Objektív CANON RF 35 mm f/1,8 Macro IS STM
Tabuľka dát
Vaše hodnotenie nie je možné odoslať
Nahlásiť komentár
Správa odoslaná
Váš podnet nie je možné odoslať
Napíšte svoju recenziu
Skontrolovať pred odoslaním
Vašu recenziu nie je možné odoslať
Genesis Tacit M je elegantná taška v štýle puzdra, do ktorej sa zmestí malá digitálna zrkadlovka...
2 ks / sada mini vysielačiek pre deti. Prenosné bezdrôtové rádiostanice Ručné obojsmerné...
Objavte jednoduchý a efektívny spôsob prenosu a správy multimediálnych dát s našou hliníkovou...
Objavte najnovšiu generáciu polarizačných filtrov Hoya Fusion ONE Next CIR-PL 77 mm, ktorý je...
Step-Up/ Step-Down Ring - redukčný krúžok Umožňuje nasadiť na objektív fotoaparátu príslušenstvo...
JJC LN-77S je špičková 77 mm kovová skrutkovacia slnečná clona, ktorá sa stane nepostrádateľnou...
Kryt objektívu v tvare lístka Nahrádza CANON EW-73D Zabraňuje prenikaniu rozptýleného svetla do...
Kryt objektívu - slnečná clona nahrádza CANON ET-78B Dodáva sa s okienkom na prístup k filtrom...
Slnečná clona je jedným z najdôležitejších doplnkov každého objektívu, ktorý vlastníte. Slnečná...
Slnečná clona JJC Canon ET-65III je nepostrádateľným príslušenstvom pre každého fotografa, ktorý...
18-55mm f/3.5-5.6GII AF-S DX NIKKOR18-55mm f/3.5-5.6G AF-S VR DX NIKKOR 18-55mm f/3.5-5.6GII AF-S...
Špeciálne navrhnutý na použitie s objektívom Olympus M.ZUIKO DIGITAL 45 mm 1:1,8; Nahrádza...
OLYMPUS ZUIKO DIGITAL ED 40-150 mm 1:4,0-5,6OLYMPUS M.ZUIKO DIGITAL ED 40-150 mm 1:4,0-5,6OLYMPUS...
Náhrada Canon ET-64 pre objektív EF 75-300 IS je nevyhnutným príslušenstvom pre každého...
Špeciálne navrhnutý na použitie s makroobjektívom FUJI XF 30 mm f/2,8 R LM WR; Zabraňuje...
Hľadáte spôsob, ako zlepšiť kvalitu svojich fotografií a zároveň ochrániť svoj objektív?...
Kryt objektívu nahrádza model NIKON HB-57 Blokuje rozptýlené svetlo, eliminuje odlesky a...
Objavte ideálne riešenie na ochranu a zvýšenie výkonu vašej kamery pomocou slnečnej clony JJC...
Kryt objektívu JJC LH-XF55200 je určený pre objektív FUJIFILM XF 55-200mm F3.5-4.8R LM OIS...
Zabraňuje prenikaniu rozptýleného svetla do objektívu;Odnímateľný na jednoduché skladovanie;Nie...
Zabraňuje prenikaniu rozptýleného svetla do objektívu; Neodleskujúca sa matná povrchová úprava zabraňuje odrazom; Bez vinetácie pri nasadenej clone objektívu; Umožňuje nasadiť filter F52 mm a krytku objektívu F52 mm; Dodatočná ochrana proti náhodnému nárazu.
Model: LH-EW52
Overené našimi zákazníkmi
Pozrite si vybrané hodnotenia našich zákazníkov.
Rudolf S. 09.03.2026




JAROSLAV P. 20.02.2026




Ivo Ř. 04.02.2026




Hodnoceno našimi zákazníky
Prohlédněte si vybraná hodnocení našich zákazníků.
scouting 23.04.2026
vendda 20.04.2026
ankabenkovicova 18.04.2026
check_circle
check_circle